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Ta-C薄膜

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产品描述
参数

       Ta-C薄膜是非晶四面体碳膜的简称(Tetrahedral Amorphous Carbon)。Ta-C薄膜是以碳基材料为基础,采用阴极磁过滤真空电弧技术,将碳原子中的sp3键滤出重新排列,实现了高sp3键微晶结构。该技术研制出的非晶四面体类金刚石薄膜具有超高硬度、低摩擦系数、耐腐蚀等优良性能,其摩擦学、化学、光学和物理特性是目前最接近天然金刚石的薄膜。目前衡量类金刚石薄膜质量最重要也是最尖端的技术指标是其sp3含量,黄金屋研制的Ta-C薄膜sp3键含量已经达到80%以上,这项指标是目前世界上已披露的同类薄膜的最高指标。这表明我司技术已创造了国际最先进水平。  

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